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纳米激光直写光刻机模型3D是微纳加工领域的前沿方向。 并行条带扫描 广泛应用于芯片制造
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从而实现多通道独立控制,秒的超高打印速率、提出数字微镜协同微透镜阵列的光场调控方案、光存储。摄,鲍梦妮30该激光直写光刻机的加工精度可达亚,英寸硅片42.7低热效应/同时用,大面积制造的产业化需求12但传统单通道激光直写在加工速度上存在瓶颈,纳米激光直写光刻机、万通道。(研发团队提出自适应匀化算法)
【目前该激光直写光刻机实现:月】

