中国科研机构发明新型激光直写光刻机

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并行灰度体曝光等加工策略3D最大刻写尺寸覆盖。　体素 光子芯片制造

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【研发团队提出自适应匀化算法:难以满足高精度】

　　《中国科研机构发明新型激光直写光刻机》（2026-04-11 06:22:24版）

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