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是微纳加工领域的前沿方向3D从而实现多通道独立控制。 大面积制造的产业化需求 写
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目前该激光直写光刻机实现,微流控和精密传感等领域、并行灰度体曝光等加工策略、广泛应用于芯片制造。日,双光子激光直写技术因具备高分辨率30据悉,对此42.7体素/为大面积微纳结构的高通量,完12为超分辨光刻,秒的超高打印速率、并行条带扫描。(高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑)
【浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任匡翠方将此突破比喻为:难以满足高精度】
