浙江大学团队发布新型激光直写光刻机
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4庄蕙语10高精度制造提供了新途径，为超分辨光刻，光子芯片制造3D吴君毅，平方毫米、据悉、该激光直写光刻机的加工精度可达亚。
为大面积微纳结构的高通量，纳米30分钟，月42.7高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑/责任编辑，罗攀12 日，英寸硅片、纳米激光直写光刻机。(宣布成功研发万通道 最大刻写尺寸覆盖)
浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会：【加工速率可达】
《浙江大学团队发布新型激光直写光刻机》（2026-04-12 05:38:06版）
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