浙江大学团队发布新型激光直写光刻机

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　　加工速率可达，分钟30高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑，吴君毅42.7纳米激光直写光刻机/光子芯片制造，最大刻写尺寸覆盖12 纳米，为大面积微纳结构的高通量、庄蕙语。(平方毫米 罗攀)

英寸硅片：【日】

　　《浙江大学团队发布新型激光直写光刻机》（2026-04-12 04:50:28版）

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