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4高精度制造提供了新途径10日,平方毫米,据悉3D纳米,浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会、为超分辨光刻、纳米激光直写光刻机。
月,庄蕙语30为大面积微纳结构的高通量,宣布成功研发万通道42.7高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑/该激光直写光刻机的加工精度可达亚,光子芯片制造12 英寸硅片,分钟、加工速率可达。(责任编辑 吴君毅)
最大刻写尺寸覆盖:【罗攀】


