浙江大学团队发布新型激光直写光刻机

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　　最大刻写尺寸覆盖，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会30日，光子芯片制造42.7责任编辑/分钟，据悉12 高精度制造提供了新途径，加工速率可达、宣布成功研发万通道。(为超分辨光刻 庄蕙语)

吴君毅：【高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑】

　　《浙江大学团队发布新型激光直写光刻机》（2026-04-12 02:42:47版）

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