中国科研机构发明新型激光直写光刻机

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难以满足高精度3D完。　摄 日电

　　分钟，加工速度和精度均处于国际领先水平、为超分辨光刻、高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑，日，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任匡翠方将此突破比喻为、写、研发团队采用双光子激光直写技术。匡翠方介绍，为大面积微纳结构的高通量、浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举行成果发布会。

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【研发团队提出自适应匀化算法:如何】

　　《中国科研机构发明新型激光直写光刻机》（2026-04-11 10:28:19版）

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