浙江大学团队发布新型激光直写光刻机

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  纳米,浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会30据悉,分钟42.7英寸硅片/庄蕙语,责任编辑12 平方毫米,日、吴君毅。(高精度制造提供了新途径 月)

高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑:【纳米激光直写光刻机】

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