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浙江大学团队发布新型激光直写光刻机
2026-04-12 01:59:00  来源:大江网  作者:

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  为超分辨光刻,平方毫米30据悉,浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会42.7分钟/光子芯片制造,英寸硅片12 罗攀,加工速率可达、纳米激光直写光刻机。(纳米 为大面积微纳结构的高通量)

日:【该激光直写光刻机的加工精度可达亚】

编辑:陈春伟
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