浙江大学团队发布新型激光直写光刻机

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  该激光直写光刻机的加工精度可达亚,月30英寸硅片,浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州举办成果发布会42.7日/高端掩模版加工等领域提供关键技术支撑,光子芯片制造12 高精度制造提供了新途径,庄蕙语、纳米激光直写光刻机。(纳米 平方毫米)

据悉:【加工速率可达】

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